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PACVD

Plasma-Assisted Chemical Vapour Deposition (Plasma-aktivierte chemische Dampfabscheidung)

PACVD
Was sind PACVD-Beschichtungen?

Zur Herstellung metallfreier Kohlenstoffschichten setzt Oerlikon Balzers das Hochfrequenz-PACVD-Verfahren ein.

Die Prozessanordnung ähnelt der des Sputterns, welches häufig in Kombination mit CVD verwendet wird. Beim PACVD-Verfahren wird ein Gas, das Elemente des Schichtmaterials enthält, in die Vakuumkammer geleitet. Danach wird ein Entladungsbogen durch eine Wechselspannung gezündet.

Dabei entstehen freie Kohlenstoff- und Wasserstoff-Atome (Ionen und Radikale), die auf Werkzeugen und Bauteilen eine kompakte Schicht bilden. Die Schichteigenschaften können durch Veränderung der angelegten Spannung beeinflusst werden.

  1. Argon
  2. Reaktives Gas
  3. Bauteile/Werkzeuge
  4. Planare Magnetron-Zerstäubungsquelle (Beschichtungsmaterial)
  5. Hochfrequenzanschluss
  6. Vakuumpumpe

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