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INVENTA

步入PVD电弧技术的新维度

INVENTA platform
INVENTA kila open

采用先进电弧技术(AAT)系统平台提供了最先进的解决方案。这项创新技术提供了无与伦比的多功能性,这要归功于其引弧针、高端电弧源设计和快速可调电磁场之间的完美互动。

这些重要的组成部分得到了显著的增强,使INVENTA成为一个高效、可靠和多产的系统,并极大地提高了涂层均匀性。AAT为您提供比以往任何时候都更优质的涂层。

涂层技术

  • 新的电弧源和引弧针技术
  • 最先进的硬件和软件
  • 灵活的法兰和挡板概念
  • 可选项:真空金属离子蚀刻(VMIE)
  • 可用于氮化物和氧化物基涂层

可持续性

  • 降低能耗(约20%)
  • 更高的靶材利用率,减少了材料浪费
  • 优化的冷却水系统减少了水的消耗

先进电弧技术(AAT)

高端弧源设计

  • 高端的设计可使用更广泛多样的靶材
  • 提高涂层均匀性
  • 涂层效率更高
  • 无可移动部件-提高稳定性和灵活性

新型电弧源

新型引弧针

  • 针对特定涂层结构(纳米/多层)的快速点火频率
  • 免维护,几乎无磨损
  • 新的位置避免液滴到达基材

快速可调电磁场

  • 同一块靶材可以是不同种类的材料-双材料靶材
  • 靶材利用率高(高达60%)
  • 轻松过渡到各种涂层结构
  • 可控制放电电压重现涂层结构

体验未来的高性能BALINIT®涂层

我们的许多高性能涂层在各种加工应用中都得到了验证,您的客户在使用这些涂层后都取得了良好的效果。将这些久经考验、值得信赖的涂层集成到 INVENTA 系统中,将为您的客户带来更高的生产率。此外,您还将为新的涂层做好准备,这些涂层将在多种加工应用中进一步提高性能和生产率,使您的涂层和最终用户都能从中受益。

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