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METAPLAS.DOMINO micra Una solución compacta y versátil para un sistema PVD personalizado

METAPLAS.DOMINO micra

TEl equipo METAPLAS.DOMINO micra cumple las necesidades de casi todos los retos un una única plataforma.
Permite utilizar una gran variedad de tecnologías dependiendo de las necesidades del cliente y es una plataforma perfecta, especialmente como sistema HiPIMS.

  • APA Arc, HiPIMS sputtering o tecnología HI3
  • HiPIMS sputtering con 4 magnetrones y BIAS bipolar pulsado sincronizado
  • Combinación posible con proceso de nitruración PACVD
  • Reequipamiento con varias tecnologías según las necesidades del cliente
Propiedades METAPLAS.DOMINO micra
Volumen útil de recubrimiento Ø 450 mm x 500 mm
Módulos de recubrimiento disponibles Arco, Pulverización, HiPIMS, HI3, Nitruración
Evaporadores de arco APA 3 a 12
Fuentes de pulverización del magnetrón 1 a 4
Fuentes de alimentación disponibles DC, DC pulse, middle frequency (MF), HiPIMS, (RF upon request)
BIAS disponible Bipolar pulse, middle frequency
Limpieza de plasma Todos los sistemas equipados con el proceso de grabado por energía AEGD patentado
Tabla de substrato estándar
(otras por solicitud)
6 ejes

© Copyright 2024 OC Oerlikon Management AG

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