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AAT - Advanced Arc Technology Eine Revolution in der PVD-Arc-Technologie: Höchste Performance und Effizienz - beste Ergebnisse
Revolutionäre PVD-Arc-Technologie: Unübertroffene Leistung und Ergebnisse mit AAT
AAT ist eine innovative PVD-Arc-Technologie, die dank des ideal abgestimmten Zusammenspiels von Trigger-System, Hochleistungs-Arc-Quelle und dem flexibel anpassbaren elektromagnetischen Feld eine herausragende Vielseitigkeit bietet.
Diese zentralen Komponenten wurden entscheidend weiterentwickelt, um unsere Anlagen noch effizienter, zuverlässiger und produktiver zu machen und somit gleichmäßigere Beschichtungen von höherer Qualität zu ermöglichen.
Arc-Quelle mit High-End-Design
- High-End-Design für eine Vielzahl von Target-Materialien
- Gleichmäßigere Beschichtungen
- Hohe Beschichtungseffizienz
- Keine beweglichen Teile – erhöhte Stabilität
Schnell anpassbares elektromagnetisches Feld
- Verschiedene Materialien in einem Target – Bi-Material-Target
- Hohe Ausnutzung des Target-Materials (bis zu 60 %)
- Einfacher Wechsel zwischen unterschiedlichen Schichtstrukturen
- Reproduzierbare Schichtstruktur durch geregelte Entladungsspannung
Neuer Trigger (Zündfinger)
- Hohe Auslösefrequenz für Nano-/Multilayer-Beschichtungen
- Wartungsfrei und geringster Verschleiß
- Durch die neue Position können Tröpfchen das Substrat nicht mehr erreichen
Vorbereitet für zukünftige Schichtarchitekturen
Schnelle und einfache Wechsel des Schichtaufbaus, unterstützt neue Schichtarchitekturen
Produktivitätssteigerung und Kostenersparnis
Erhöhte Ladekapazität, höhere Abscheiderate, verbesserte Target-Ausnutzung und kürzere Batch-Zeiten
Vielseitiges Konzept durch Multi-Material-Targets
Für verschiedene Schichtstrukturen von Gradienten- bis Nano-/Multilayer-Beschichtungen
Energie- und Ressourceneffizienz
Niedrigerer Energieverbrauch und effizientes Kühl-/Heizsystem
Kompatibel mit älteren Modellen
Zubehörteile wie Karussellen, Halterungen, Ladeplattformen und Wagensystemen können weiter verwendet werden
Optimiertes Kammerdesign
Drei Quellen für verbesserte Schichtqualität, bis zu acht Target-Materialien und vereinfachter Austausch von Targets
Arc Evaporation
Bei der Arc Evaporation bewegt sich ein kleiner Punkt von hoher elektrischer Spannung über die Oberfläche eines Targets. Das Material schmilzt unmittelbar und der Metalldampf kondensiert auf dem Werkstück. Aufgrund der explosiven Art dieses Verfahrens bilden sich Tröpfchen aus flüssigem Metall, die zu einer rauen Oberfläche auf dem Werkstück führen. Zur Bildung von Verbindungen kann Reaktivgas zugeführt werden.
Prozesseigenschaften:
- Hoher Ionisationsgrad
Schichteigenschaften:
- Hohe Dichte, hoher Härtegrad
- Hervorragende Schichthaftung
- Weniger glatt, Tröpfchen
Mit AAT den PVD-Beschichtungsprozess neu definieren
AAT revolutioniert Ihren PVD-Beschichtungsprozess und sorgt dabei für herausragende Effizienz, Qualität und Nachhaltigkeit. Nutzen Sie die Vorteile gesteigerter Produktivität und reduzierter Kosten und überzeugen Sie sich von der exzellenten Performance unserer INVENTA-Systeme. Entdecken Sie die Zukunft der PVD-Arc-Technologie und optimieren Sie Ihre Beschichtungsprozesse für maximale Leistung.
Bewährte und zukünftige BALINIT®-Hochleistungsbeschichtungen
Die Schichten des BALINIT®-Portfolios garantieren maximale Leistung in zahlreichen anspruchsvollen Zerspanungsanwendungen. Durch die Integration dieser zuverlässigen PVD-Beschichtungen in das INVENTA-System steigern Sie sowohl die Produktivität in Ihrem Beschichtungsbetrieb als auch die Ihrer Kunden. Darüber hinaus sind die INVENTA-Anlagen für zukünftige Schichtarchitekturen vorbereitet, die die Leistung und Produktivität weiter verbessern werden.
