Wzmocnione napylanie (enhanced sputtering)

Wzmocnione napylanie wykorzystuje niskonapięciowe wyładowanie łukowe w centrum komory w celu wytworzenia plazmy o intensywności kilkukrotnie większej niż w podstawowym procesie napylania, a tym samym do wytworzenia znacznie wyższego stopnia jonizacji cząstek w fazie gazowej.