低真空 (LVPS™) / 低压 (LPPS™) 等离子喷涂系统

系统基于我们久经考验且高度可靠的 ChamPro™ 涂层工艺，设计用于具有以下独特功能的大批量生产涂层（例如动叶和静叶）：

• 典型腔室压力从 20 mbar 至 300 mbar 的喷涂过程
• 用于工件清洁（去除氧化层）的反转转移弧
• 高能等离子炬输出高达 120 kW 的高焓等离子流
• 最大喷涂部件重量（包括固定装置）最大为 60 kg
• 使用四轴喷枪机械手，通过先进的 CNC 系统控制喷涂零件的运动

这些系统属性赋予了真空等离子涂层工艺的先进特性：

• 非常灵活的操作条件
• 薄、厚涂层均可应用
• 较缓慢的涂层凝固 => 控制残余应力
• 等离子射流的集束形状可带来高沉积效率

涂层工艺所描述的基本概念和工作流程如下。

1. 将零件装载到叉架夹爪中
2. 关闭传输腔室，抽至初始真空
3. 用氩气充回传输腔室的工作压力
4. 打开主腔室的闸阀
5. 将零件传输到主腔室中预热、进行 T/A 清洁和零件涂覆
6. 将零件送回传输腔室
7. 闸阀关闭
8. 冷却周期，之后将传输腔室充回大气压
9. 手动或使用装置卸载零件