Die METAPLAS.DOMINO micra erfüllt die Anforderungen an fast alle Herausforderungen auf einer Plattform.
Sie erlaubt eine Ausrüstung mit verschiedensten Technologien nach Kundenanforderungen und bietet speziell als HiPIMS-Anlage eine perfekte Basis.
- APA Arc, HiPIMS-Sputtern oder HI3-Technologie
- HiPIMS-Sputtern mit 4 Magnetrons und synchronisierter, bipolar gepulster BIAS
- Kombination auch mit PACVD und Nitrierprozess
- Nachrüstung unterschiedlichster Technologien je nach Kundenanforderungen