METAPLAS.DOMINO micra可以在一个平台上满足几乎所有挑战的要求。它允许根据客户需求使用多种技术,是一个趋近于完美的平台,特别是HIPIMS系统。
- APA Arc, HiPIMS 溅射或HI3技术
- 配备有 4 个磁控阴极和同步双极脉冲 BIAS 的 HiPIMS 溅射
- 还可与 PACVD 和氮化工艺相结合
- 根据客户要求改装配备各种技术模块
语言切换
METAPLAS.DOMINO micra可以在一个平台上满足几乎所有挑战的要求。它允许根据客户需求使用多种技术,是一个趋近于完美的平台,特别是HIPIMS系统。
© Copyright 2024 OC Oerlikon Management AG
回到顶部 keyboard_arrow_up