METAPLAS.DOMINO micraは1つのプラットフォームでほぼ全ての要求を満たします。
顧客の要望に応じた多様な技術を可能にし、特にHiPIMSシステムとして最適なプラットフォームです。
- APA アーク、HiPIMSスパッタリングまたは HI3テクノロジー
- 4台のマグネトロンと同期した双極性パルスBIASによるHiPIMSスパッタリング
- PACVDや窒化処理との組み合わせも可能
- 顧客の要望に応じた各種技術のレトロフィット
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METAPLAS.DOMINO micraは1つのプラットフォームでほぼ全ての要求を満たします。
顧客の要望に応じた多様な技術を可能にし、特にHiPIMSシステムとして最適なプラットフォームです。
特性 | METAPLAS.DOMINO micra |
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コーティング使用可能容積 | Ø 450 mm x 500 mm |
利用可能なコーティングモジュール | アーク,スパッタ, HiPIMS, (HI3, 窒化) |
APAアークソース取り付け可能数 | 3 - 12 |
スパッタ式ソース取り付け可能数 | 1 - 4 |
使用可能な電源 | DC, DCパルス, HiPIMS,双極パルス, MF(要望に応じて増減可能) |
使用可能な BIAS | 双極性パルス, middle frequency |
プラズマ洗浄 | 全てのシステムは特許取得済みのパワーエッチングプロセスAEGDを装備 |
基材テーブルの標準軸数 (要望に応じて増減可能) |
6 軸 |
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