METAPLAS.DOMINO micra는 하나의 플랫폼에서 거의 모든 요구 조건을 충족시킬 수 있습니다.
고객의 요구에 따라 다양한 기술이 적용 가능하며, 특히 HiPIMS 시스템으로서 완벽한 플랫폼입니다.
- APA Arc, HiPIMS 스퍼터링 또는 HI3 기술
- 4개의 마그네트론과 및 동기화 된 양극 펄스 BIAS를 사용한 HiPIMS 스퍼터링
- PACVD 및 질화 공정과도 결합 가능
- 고객의 요구 사항에 따른 다양한 기술 개조 가능
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METAPLAS.DOMINO micra는 하나의 플랫폼에서 거의 모든 요구 조건을 충족시킬 수 있습니다.
고객의 요구에 따라 다양한 기술이 적용 가능하며, 특히 HiPIMS 시스템으로서 완벽한 플랫폼입니다.
특성 | METAPLAS.DOMINO micra |
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유효 코팅 볼륨 | Ø 450 mm x 500 mm |
사용 가능 코팅 모듈 | Arc, Sputter, HiPIMS, HI3, Nitriding |
APA 아크 증발기 | 3 to 12 |
마그네트론 스퍼터 소스 | 1 to 4 |
사용 가능한 전원 공급 장치 | DC, DC pulse, middle frequency (MF), HiPIMS, (RF upon request) |
사용가능한 BIAS | Bipolar pulse, middle frequency |
플라스마 세척 | All systems equipped with patented power etching process AEGD |
표준 모재 테이블 (요청 시 다른 테이블 제공 가능) |
6 축 |
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